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HWOTECH

紫外臭氧清洗机

应用领域

用于处理ITO,FTO，光学玻璃，半导体，硅片，金属，陶瓷，聚合物等基片表面的有机物，可以提高基片表面附着力或者改善表面亲水性，在衬底涂层或者镀膜，基片键合等方面有广泛应用。

清洗原理

VUV低压紫外汞灯能同时发射波长254nm和185nm的紫外光，这两种波长的光子能量可以直接打开和切断有机物分子中的共价键，使有机物分子活化，分解成离子、游离态原子、受激分子等。与此同时，185nm波长紫外光的光能量能将空气中的氧气（O2）分解成臭氧（O3）；而254nm波长的紫外光的光能量能将O3分解成O2和活性氧（O），这个光敏氧化反应过程是连续进行的，在这两种短波紫外光的照射下，臭氧会不断的生成和分解，活性氧原子就会不断的生成，而且越来越多，由于活性氧原子（O）有强烈的氧化作用，与活化了的有机物（即碳氢化合物）分子发生氧化反应，生成挥发性气体（如CO2，CO，H2O，NO等）逸出物体表面，从而彻底清除了粘附在物体表面上的有机污染物。

参考客户

宁德时代，比亚迪，京东方，晶科能源，福晶科技，水晶光电，苏州协鑫，蜂巢能源，纤纳光电，大族激光，国家纳米中心，中科院长春光机所，中科院半导体所，中科院长春应化所，中科院苏州纳米所，中科院宁波材料所，中科院上海高等研究院，中科院深圳先进技术研究院，清华大学，北京大学，复旦大学，浙江大学，同济大学，中国人民大学，南京大学，武汉大学，西安交通大学，中山大学，华南理工大学，东南大学，电子科技大学，哈尔滨工业大学，北京大学深圳研究生院，清华大学深圳研究生院，哈工大深圳研究生院，香港中文大学（深圳），澳门大学，中南大学，西北工业大学，厦门大学，山东大学，天津大学，大连理工大学，华南师范大学，湖南大学，西南大学，北京科技大学，北京化工大学，郑州大学，东北大学，东北师范大学，上海大学，南方科技大学，深圳大学，广东工业大学，南京邮电大学，广西大学等