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表面处理
离心系统

紫外臭氧清洗机产品

全新升级的第五代机型,操作和维护更简便,适用于科研实验和小批量生产,拥有工业级别的清洗效率和效果,三种照射尺寸: 

150*150,200*200,250*250mm

大尺寸的清洗腔可满足体积较大产品进行表面处理,灵活调节的升降托盘,方便操作的箱式设计,适合科研实验和小批量生产,两种照射尺寸:

150*150,200*200mm

适合产能或清洗效率要求较高的工业客户,可根据客户产品尺寸和产能要求出具客户化定制方案,拥有丰富且灵活的硬件搭配方式。
满足大尺寸基片处理需求,出色的工业级清洗效果,标准照射尺寸有:350*350,400*400,450*450,500*500,600*600mm等,更大照射尺寸或硬件配置可定制化生产。
科研机构
电子半导体
钙钛矿电池
军工

应用领域

用于处理ITO,FTO,光学玻璃,半导体,硅片,金属,陶瓷,聚合物等基片表面的有机物,能有效提高基片表面附着力或改善表面亲水性,广泛应用在钙矿钛电池,晶圆制造,光通讯,OLED等行业

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清洗原理

VUV低压紫外汞灯能同时发射波长254nm和185nm的紫外光,这两种波长的光子能量可以直接打开和切断有机物分子中的共价键,使有机物分子活化,分解成离子、游离态原子、受激分子等。与此同时,185nm波长紫外光的光能量能将空气中的氧气(O2)分解成臭氧(O3);而254nm波长的紫外光的光能量能将O3分解成O2和活性氧(O),这个光敏氧化反应过程是连续进行的,在这两种短波紫外光的照射下,臭氧会不断的生成和分解,活性氧原子就会不断的生成,而且越来越多,由于活性氧原子(O)有强烈的氧化作用,与活化了的有机物(即碳氢化合物)分子发生氧化反应,生成挥发性气体(如CO2,CO,H2O,NO等)逸出物体表面,从而彻底清除了粘附在物体表面上的有机污染物。

2.玻璃基片在UV照射前后其表面水滴角数值如下图,在较佳的室内环境下,UV清洗后基片表面接触角最低可测得小于5度

1.玻璃片在初始状态,超声波或溶液法清洗,UV清洗后表面水滴状态

UV清洗后

清洗效果

基片初始状态

超声波或溶液清洗后

参考客户

华为技术,宁德时代,比亚迪,京东方,隆基绿能,晶科能源,东方日升,福晶科技,水晶光电,苏州协鑫,蜂巢能源,纤纳光电,大族激光,国家纳米中心,中科院长春光机所,中科院半导体所,中科院长春应化所,中科院苏州纳米所,中科院宁波材料所,中科院上海高等研究院,中科院深圳先进技术研究院,中科院化学所,中科院物理所,清华大学,北京大学,复旦大学,中国科学技术大学,浙江大学,同济大学,中国人民大学,南京大学,武汉大学,哈尔滨工业大学,西安交通大学,吉林大学,中山大学,南开大学,南方科技大学,华南理工大学,东南大学,电子科技大学,哈尔滨工业大学,北京大学深圳研究生院,清华大学深圳研究生院,哈工大深圳研究生院,香港中文大学(深圳),香港理工大学,澳门大学,吉林大学,中南大学,西北工业大学,暨南大学,厦门大学,山东大学,天津大学,大连理工大学,华南师范大学,湖南大学,南昌大学,西南大学,云南大学,西湖大学,北京科技大学,北京化工大学,北京工业大学,北京理工大学,郑州大学,东北大学,东北师范大学,上海大学,深圳大学,南京理工大学,南京邮电大学,江西陶瓷大学,广东工业大学,仙湖实验室,广州大学,广西大学,桂林理工大学等