UV光清洗机（紫外臭氧清洗机）BZS250GF-TC系列已升级至第五代产品，拥有工业级别的清洗效率和效果，广泛应用于光伏（钙钛矿电池），半导体芯片（晶圆）和光通讯领域，适用于中小尺寸基片清洗，如液晶面板，ITO，FTO，光学玻璃，OLED，LCD，硅片，陶瓷，金属片，聚合物，硅胶等表面清洗，用于清洗基片的表面有机物，即进行表面改质，从而有效提高基片表面的亲水性或附着力。
一.产品配置
序号 | 描述 | 型号 |
BZS200GF-TC | BZS250GF-TC | BZS320GF-TC |
1 | 整机材质 | 整机采用镜面不锈钢304制作，关键元器件采用施耐德，欧姆龙等品牌 |
2 | 电源 功率 | 220V,250W | 220V,300W | 220V,350W |
3 | 灯管功率 | 200W | 250W | 320W |
4 | 清洗尺寸 | 150*150mm | 200*200mm | 250*250mm |
5 | 灯管材质工艺 | 日本纯石英材料，一体成形格栅灯管 |
6 | 工作光谱 | 185+254nm |
7 | 灯管寿命 | 8000小时 |
8 | 时间范围 | 0-99分钟/小时 |
9 | 照射高度 | 0-100mm |
10 | 光照辅助 | 配置高性能反光板 |
11 | 加热（选配） | 加温范围：常温-300℃ |
12 | 安全防护 | 当抽屉拉出时，灯管自动熄灭 |
13 | 提示灯 | 异常指示/警报 |
14 | 排风功能 | 自带臭氧排风系统，125mm直径出风口，配置风管及紧固件 |
二.清洗效果验证
ITO或玻璃片在我们的UV光清洗机照射10分钟后表面接触角前后对比
三.应用领域
■在进行薄膜沉积之前先进行基片清洗。清除浮渣和稳定化处理光刻胶。超高真空度密封。
■清洗硅芯片，透镜，反光镜，太阳能面板，冷轧钢，惯性引导零件和 GaAs芯片
■清洁焊剂，混合电路以及平板LCD显示器
■蚀刻特氟隆，氟橡胶以及其它有机材料
■增强GaAs 和Si氧化物钝化表面
■增强玻璃的除气作用
■基片蓝膜去除
■增强塑料表面的镀膜的粘附性
■基片终测后墨迹清楚
■去除光刻胶
■平板显示器/液晶显示器
■去除光刻机台上的光刻胶残留物
■在电路板封装和打片之前清洗）
■光纤
■增强表面亲水特性
■为生物科学应用做清洗和消毒
■光学透镜
■其它应用
四.产品实图
