某高校用户需要玻璃基片和硅片进行键合，前端使用的是超声波清洗，然后烘干，后端采用自行组装的UV灯装置进行表面处理，但键合效果并不理想，其测得玻璃和硅片经超声波和UV装置照射后表面接触角28度。

我司工作人员到客户实验室了解后，其UV装置 的185nm和254nm光强都较弱，所产生的臭氧浓度一般，不容易分解有机物。后采用我司的抽屉式BZS250GF-TC进行处理，照射高度3CM,照射时间10分钟，后测得表面接触角为9度，对两个基片进行键合后，达到了客户要求的效果。

一般客户自行装组的UV清洗装置会出现几个问题：

                                            1.采用的灯管工作光谱不是185nm和254nm并用光强较弱；

                                            2.清洗空间设计有缺陷，导致臭氧浓度一般；

                                            3.没有采用有效方式排除多余臭氧（我司设备内置臭氧排风系统）；