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玻璃硅片键合案例
来源: | 作者:mob4c393f | 发布时间: 2019-07-15 | 1230 次浏览 | 分享到:

某高校用户需要玻璃基片和硅片进行键合,前端使用的是超声波清洗,然后烘干,后端采用自行组装的UV灯装置进行表面处理,但键合效果并不理想,其测得玻璃和硅片经超声波和UV装置照射后表面接触角28度。

我司工作人员到客户实验室了解后,其UV装置 的185nm和254nm光强都较弱,所产生的臭氧浓度一般,不容易分解有机物。后采用我司的抽屉式BZS250GF-TC进行处理,照射高度3CM,照射时间10分钟,后测得表面接触角为9度,对两个基片进行键合后,达到了客户要求的效果。

一般客户自行装组的UV清洗装置会出现几个问题:

                                            1.采用的灯管工作光谱不是185nm和254nm并用光强较弱;

                                            2.清洗空间设计有缺陷,导致臭氧浓度一般;

                                            3.没有采用有效方式排除多余臭氧(我司设备内置臭氧排风系统);