大型抽屉式UV光清洗机BZS2003WF-13C适用中大型基片等清洗，如液晶面板，ITO导电玻璃，晶圆，OLED，LCD，硅片，陶瓷，金属片，聚合物，硅胶等表面清洗，用于清洗基片的表面有机物，即进行表面改质，从而有效提高基片表面亲水性或附着力，可根据客户要求进行客户化设计。 

一.产品配置 

1. 整机采用不锈钢304制作，关键元器件采用施耐德，欧姆龙等品牌；

2. 电源：220V；

3. 灯管：根据客户需求定制灯管功率及尺寸，寿命8000小时；

4. 主要工作光谱：185nm+254nm；

5. 有效清洗面积：350*350MM或320*380MM，可客户化定制更大尺寸的清洗面积；

6. 清洗时间控制器：0-99.99小时或分钟；

7. 安全防护功能：当清洗腔门打开时，灯管自动熄灭；

8. 照射高度：可定制

9. UV ON/OFF指示，异常指示/警报；

10. 灯管预热：具灯管预热提示功能，使清洗数据更精准；

11. 加热（选配）：可选择加配外置加热平台，温度范围：常温~300摄氏度；

12. 排风功能：自带臭氧排风系统，可分档调节风速，125mm直径出风口，配置风管及紧固件；

二.清洗效果验证

ITO或玻璃片在我们的UV光清洗机照射10分钟后表面接触角前后对比

                                                                          
三.应用领域

■在进行薄膜沉积之前先进行基片清洗。清除浮渣和稳定化处理光刻胶。超高真空度密封。
■清洗硅芯片，透镜，反光镜，太阳能面板，冷轧钢，惯性引导零件和 GaAs芯片
■清洁焊剂，混合电路以及平板LCD显示器
■蚀刻特氟隆，氟橡胶以及其它有机材料
■增强GaAs 和Si氧化物钝化表面
■增强玻璃的除气作用
■基片蓝膜去除
■增强塑料表面的镀膜的粘附性
■基片终测后墨迹清楚
■去除光刻胶
■平板显示器/液晶显示器
■去除光刻机台上的光刻胶残留物
■在电路板封装和打片之前清洗）
■光纤
■增强表面亲水特性
■为生物科学应用做清洗和消毒
■光学透镜
■其它应用